在光刻机、TEM/SEM 电子显微镜及原位力学测试等纳米级制造与检测场景中，实现<5nm 甚至亚纳米级（Sub-nanometer）的微振动控制是*工程。传统的 VC-A/B 级净化车间在纳米级精度面前已彻底失效。
AMC（Airborne Molecular Contamination，气态分子污染物）控制是*半导体、光刻及高端制药洁净室的*技术。区别于传统 HEPA/ULPA 颗粒物过滤，AMC 控制针对的是 ppb（10-9）甚至 ppt（10-12）级别的分子级化学气体（酸性 MA、碱性 MB、有机凝结物 MC、掺杂物 MD）。
